[文章導讀] 等離子化學氣相沉積設備技術是借助于輝光放電等離子體使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學反應，從而實現(xiàn)薄膜材料生長的一種新的制備技術。
等離子化學氣相沉積設備（點擊了解詳情），是一種用等離子體激活反應氣體,促進在基體表面或近表面空間進行化學反應,生成固態(tài)膜的技術。等離子化學氣相沉積設備技術的基本原理是在高頻或直流電場作用下，源氣體電離形成等離子體，利用低溫等離子體作為能量源，通入適量的反應氣體，利用等離子體放電，使反應氣體激活并實現(xiàn)化學氣相沉積的技術。等離子化學氣相沉積設備與傳統(tǒng)化學氣相沉積技術的區(qū)別在于等離子體含有大量的高能量電子，這些電子可以提供化學氣相沉積過程中所需要的激活能，從而改變了反應體系的能量供給方式。
由于等離子體中的電子溫度高達10000K，電子與氣相分子的碰撞可以促進反應氣體分子的化學鍵斷裂和重新組合，生成活性更高的化學基團，同時整個反應體系卻保持較低的溫度。這一特點使得原來需要在高溫下進行的化學氣相沉積過程得以在低溫下進行。
（北京歐倍爾真空等離子表面處理設備）
等離子化學氣相沉積設備技術是借助于輝光放電等離子體使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學反應，從而實現(xiàn)薄膜材料生長的一種新的制備技術。由于等離子化學氣相沉積設備技術是通過應氣體放電來制備薄膜的，有效地利用了非平衡等離子體的反應特征，從根本上改變了反應體系的能量供給方式。更多有關于等離子化學氣相沉積設備相關知識，請聯(lián)系等離子化學氣相沉積設備廠商---北京歐倍爾公司（www.gzlianxiong.com.cn）。
