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石蠟切片機(jī)——石蠟切片組織學(xué)常規(guī)制片技術(shù)中最為廣泛應(yīng)用的方法

石蠟切片機(jī)——石蠟切片組織學(xué)常規(guī)制片技術(shù)中最為廣泛應(yīng)用的方法

(切片機(jī))教學(xué)中,光鏡下觀察切片標(biāo)本多數(shù)是石蠟切片法制備的?;畹募?xì)胞或組織多為無(wú)色透明,各種組織間和細(xì)胞內(nèi)各種結(jié)構(gòu)之間均缺乏反差,在一般光鏡下不易清楚區(qū)別出;組織離開(kāi)機(jī)體后很快就會(huì)死亡和產(chǎn)生組織腐敗,失去原有正常結(jié)構(gòu),因此,組織要經(jīng)固定、石蠟包埋、切片及染色等步驟以免細(xì)胞組織死亡,而能清晰辨認(rèn)其形態(tài)結(jié)構(gòu)。

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臺(tái)式核磁共振成像的原理及應(yīng)用

臺(tái)式核磁共振成像的原理及應(yīng)用

核磁共振成像(MRI)也稱磁共振成像,是利用核磁共振原理,通過(guò)外加梯度磁場(chǎng)檢測(cè)所發(fā)射出的電磁波,據(jù)此來(lái)繪制成物體內(nèi)部的結(jié)構(gòu)圖像。

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電子順磁共振技術(shù)的應(yīng)用及進(jìn)展

電子順磁共振技術(shù)的應(yīng)用及進(jìn)展

電子順磁共振EPR 技術(shù)最初是物理學(xué)家用來(lái)研究某些復(fù)雜原子的電子結(jié)構(gòu)、晶體結(jié)構(gòu)、原子偶極矩及分子結(jié)構(gòu)等問(wèn)題。

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微納米力學(xué)系統(tǒng)的表征技術(shù)

微納米力學(xué)系統(tǒng)的表征技術(shù)

(微納米力學(xué)系統(tǒng))同時(shí)隨著材料設(shè)計(jì)的微量化、微電子行業(yè)集成電路結(jié)構(gòu)的復(fù)雜化,傳統(tǒng)材料力學(xué)性能測(cè)試方法已難以滿足微米級(jí)及更小尺度樣品的測(cè)試精度,不能夠準(zhǔn)確評(píng)估薄膜材料的強(qiáng)度指標(biāo)和壽命;

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電子自旋共振波譜儀——自旋電子的疑問(wèn)

電子自旋共振波譜儀——自旋電子的疑問(wèn)

(電子自旋共振波譜儀)人們知道電子是帶電的基本實(shí)體.24 年后的1921年,斯特恩-格拉赫(Stern-Gerlach)發(fā)現(xiàn)電子還具有磁性,稱之為自旋,從此,電子是既有電性又有磁性的實(shí)體.

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臺(tái)式核磁共振成像T2弛豫時(shí)間及臺(tái)式核磁共振成像弛豫率測(cè)試

臺(tái)式核磁共振成像T2弛豫時(shí)間及臺(tái)式核磁共振成像弛豫率測(cè)試

(臺(tái)式核磁共振成像)恢復(fù)的過(guò)程即稱為弛豫過(guò)程,它是一個(gè)能量轉(zhuǎn)換過(guò)程,需要一定的時(shí)間反映了質(zhì)子系統(tǒng)中質(zhì)子之間和質(zhì)子周圍環(huán)境之間的相互作用。

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